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国产EUV光刻机有突破进展(中国光刻机的新突破)

实习编辑 • 2023-11-14 08:34:35 • 用户投稿 • 阅读 3

目前，我国的芯片主要依赖进口，每年的进口金额在所有进口商品中一直是最多。虽然我们也有中芯国际、华虹半导体等晶圆代工厂，但高端制程芯片如今还做不出来。

因为7nm及以下制程工艺就需要euv光刻机，但唯一能够生产euv的asml却受限制，不能出货给我们，那我们就只能自研突破。近日，上海光机所传来了好消息。


euv光刻机的围堵

目前，全球仅有四家厂商能够生产用于芯片制造的光刻机，分别是asml、尼康、佳能和上海微电子，但能够生产euv光刻机的却只有asml，也就是说独家垄断euv。

国产EUV光刻机有突破进展(中国光刻机的新突破)

asml之所以能够独家生产euv光刻机，主要因为当初加入了美企英特尔牵头成立的euvlcc技术联盟，而这个联盟又将尼康排除在外，让asml独享了euv技术。

当然，asml因此被美控制，承诺美零部件占比55%以上，去美建厂和研发基地等。

即使如此，其实对于euv光刻机，之前asml并没有拒绝卖给我们。不然的话，为什么会在2018年时，asml还接受了中芯国际的订单呢？中芯还预付了1.2亿美元。

但后来却被美盯上了，在asml计划出货的前一段时间被拦下了，至今未能到货。

而美方要限制asml卖给我们，得有正当的理由呀，不能想怎么样就怎么样吧。于是，美方先拿出了《瓦森纳协定》，这是欧美等40多个国家签订的专门用于封锁技术。

当然，荷兰也是签订国之一。协议规定了电子元器件、计算机等9大类产品和技术不能出货给我国在内的几个国家，asml是荷兰企业，自然也不敢不遵守这个协议规定。

不过，《瓦森纳协定》签订时间较早，并没有将光刻机列在其中。于是美方这了进一步明确限制规则，又修改了他们的出口管制清单，新增了六种禁止出口的管理技术。

其中，有两项技术明显指的就是euv光刻机，这下进一步限制了euv光刻机出货。


euv光刻机的突围

后来，美方进一步修改euv出货规则，连国外芯片企业在大陆的工厂也不能获得euv光刻机，之前韩企sk海力士就想要给它在无锡的芯片厂引入euv就受到了限制。

既然人家铁了心要限制我们euv光刻机，那我们只有自研突破这条路了。但想独立造出euv可不容易，因为它囊括了光学、力学、精密仪器、机械等多项顶尖的技术。

要自研首先要突破光源、光学投影物镜、激光矫正器、掩模版、曝光台等核心部件。

虽然说euv光刻机一台就包含了10万多个元器件，想要自研实现突破，难度非常大。但其实也可以比作一张拼图，只要我们努力去做，一块一块去拼接，总会拼出来的。

近日，中科院旗下的上海光机所传来好消息，完成了多项技术突破，其中一项事关国家重大专项核心光学元器件，还有一项是实现了米级光栅大口径离轴反射曝光技术。

这几项都是制造euv核心元器件的关键技术，等于又完成了国产euv的几块拼图。

中科院上海光机所，即上海光学精密机械研究所，是我国建立最早、规模最大的激光专业研究所。不只是这次有突破，还有长春光机所，之前都有过多次相关技术突破。

之前中科院院长白春礼就表示，要把美“卡脖子”清单变成科研任务来布局，组织力量突破光刻机等关键的核心技术。从上海光机所的进展来看，确实已经在布局突破了。

值得一提的是，我们也不是近两年才布局研发euv相关技术，而是早就进行布局。

之前，asml曾放言，即使给我们图纸，我们也造不出光刻机。后来，连asml总裁也改口了，表示我们会尝试突破，不是完全没有可能，继续围堵只会加速我们突破。

其实，国产euv光刻机的拼图，我们已经完成了不少，相信一定会尽快完成拼图！

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